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本发明公开了一种原子层沉积设备及方法，该设备包括反应腔室、溶剂冲刷系统以及多个前驱体传输系统，其中，每个前驱体传输系统均包括前驱体传输管路和与前驱体传输管路可通断性连接的前驱体源瓶，每条前驱体传输管路均连接至反应腔室；溶剂冲刷系统包括溶剂传输管路和与溶剂传输管路可通断性连接的溶剂源瓶，溶剂传输管路与每个前驱体传输系统中的前驱体传输管路选择性连通，以向前驱体传输管路和/或反应腔室通入吹扫溶剂进行吹扫。本发明通过增加溶剂冲刷系统，可以有效清除前驱体传输管道内的残留和腔室内的非预期反应物沉积，不仅可以
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 110527980 A
(43)申请公布日
2019.12.03
(21)申请号 20181
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