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一种与p型碳化硅层(1)形成欧姆接触的方法包括:提供具有第一主侧面(18)和与第一主侧面(18)相反的第二主侧面(19)的p型碳化硅层(1)的步骤;从第一主侧面(18)向p型碳化硅层(1)注入离子,在第一主侧面(18)附近形成注入层(11)的步骤。该方法特征在于,通过等离子体浸没离子注入来执行将离子注入到p型碳化硅层(1)中的步骤,其中,将p型碳化硅层(1)浸没在包括第一离子(31)和第二离子(32)的等离子体(3)中,第一离子(31)是离子化的铝原子,第二离子(32)不同于第一离子(31)。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113284793 A
(43)申请公布日 2021.08.20
(21)申请号 202110150064.X
(22)申请日 2021.02.02
(30)优先权数据
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