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公开了一种制造静态随机存取存储(SRAM)单元的方法。根据实施例,该方法可以包括:在衬底上依次设置第一组的第一源/漏层、沟道层和第二源/漏层以及第二组的第一源/漏层、沟道层和第二源/漏层的叠层;在该叠层上形成硬掩模层,包括用于限定SRAM单元中晶体管的主体部分以及主体部分之间的、用于限定SRAM单元中互连结构的连接部分,连接部分的线宽小于主体部分的线宽;利用硬掩模层,在第二组的沟道层和第二源/漏层中限定下拉晶体管和通过门晶体管的有源区;利用硬掩模层,在第二组的第一源/漏层和第一组的第二源/漏层中
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114664742 A
(43)申请公布日 2022.06.24
(21)申请号 202210174390.9
(22)申请日 2019.09.23
(62)分案原申请数据
201910902431.X
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