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提供一种具有改善的电特性的半导体存储器件。该半导体存储器件包括:第一半导体图案,其在第一方向上与衬底分离;第一栅极结构,其在第一方向上延伸并穿透第一半导体图案;第一导电连接线,其连接至第一半导体图案并在不同于第一方向的第二方向上延伸;以及第二导电连接线,其连接至第一半导体图案。第一栅极结构位于第一导电连接线和第二导电连接线之间,第一栅极结构包括第一栅电极和第一栅极绝缘膜,且第一栅极绝缘膜包括与第一半导体图案接触的第一电荷保持膜。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114446990 A
(43)申请公布日 2022.05.06
(21)申请号 202111276609.8
(22)申请日 2021.10.29
(30)优先权数据
10-2020-0145137
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