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- 2023-06-17 发布于四川
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本发明公开了一种高纯度光学镀膜材料的生产工艺，包括以下步骤：通过磁选、清洗、脱羟、浮选、清洗烘干等步骤，有效地去除了金属杂质、纯化效果好，脱羟彻底；本发明多次浮选，粗浮选和细浮选结合，获得了很好的效果；本发明采用无尘烘箱进行烘干处理，无尘等级为100级，有效保证了石英颗粒的洁净度；生产的能作为光学镀膜材料的高纯二氧化硅，二氧化硅的含量在99.99%以上，铅含量小于1000mg/kg，镉含量小于100mg/kg，汞含量小于1000mg/kg，六价铬含量小于1000mg/kg，且脱羟彻底，满足镀膜材
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113264530 A
(43)申请公布日 2021.08.17
(21)申请号 202110660461.1 B03D 1/018 (2006.01)
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