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用于执行极紫外光刻工艺的系统和方法.pdfVIP

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  • 2023-06-17 发布于四川
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用于执行极紫外光刻工艺的系统和方法.pdf

    光刻系统利用锡滴生成用于光刻的极紫外辐射。光刻系统用激光照射液滴。液滴变成等离子体，并发出极紫外辐射。光刻系统检测锡滴对聚光镜的污染，并调节缓冲流体的流量以减少污染。本申请的实施例提供了用于执行极紫外光刻工艺的系统和方法。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113267963 A (43)申请公布日 2021.08.17 (21)申请号 202110495908.4 (22)申请日 2021.05.07 (30)优先权数据

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