描绘方法、原版制造方法及描绘装置.pdfVIP

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2023-06-17 发布于四川
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描绘方法、原版制造方法及描绘装置.pdf

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本发明涉及一种描绘方法、原版制造方法及描绘装置。描绘方法包含：基于从外部输入的描绘信息、高度信息、及尺寸差信息，校正描绘在衬底表面上的抗蚀膜的图案的描绘条件。描绘信息是用于通过照射电子束而在抗蚀膜上描绘图案的信息。高度信息是与衬底表面的高度相关的信息。尺寸差信息是与描绘信息所示的图案的尺寸和通过以抗蚀膜为掩模加工衬底而形成的图案的尺寸的差相关的信息，所述抗蚀膜进行了图案的描绘、显影。描绘条件的校正是为了减小衬底表面的对象部分所对应的图案的差而进行的。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116263561 A (43)申请公布日 2023.06.16 (21)申请号 202210802766.6 (22)申请日 2022.07.07 (30)优先权数据 2021-203710 202