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半导体装置以及半导体装置的制造方法。一种半导体装置包括:层叠结构,其具有彼此交替地层叠的多个绝缘层和多个导电层;在层叠结构上的硬掩模图案;穿透硬掩模图案和层叠结构的沟道结构;插置在多个绝缘层和沟道结构之间的多个绝缘图案,其中,绝缘图案比硬掩模图案的侧壁朝着沟道结构突出更远;以及插置在层叠结构和沟道结构之间的存储器层,其中,该存储器层填充多个绝缘图案之间的空间。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113284904 A
(43)申请公布日 2021.08.20
(21)申请号 202011136434.6 H01L 27/24 (2006.01)
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