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2023-06-17 发布于四川
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MEMS结构及其制造方法.pdf

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本发明涉及一种MEMS结构及其制造方法，所述MEMS结构的制造方法包括：获取基底；在所述基底上形成具有多条空心隧道的牺牲层；在所述牺牲层上形成结构层；图案化所述结构层形成所需的结构，包括在各所述空心隧道的正上方分别形成与各空心隧道对应的腐蚀孔；通过各所述腐蚀孔腐蚀所述牺牲层，形成空腔。本发明通过在牺牲层中设置多条空心隧道，使得牺牲层腐蚀时腐蚀剂能够进入隧道从而加快腐蚀速率。并且由于腐蚀剂在任意位置进入隧道后就能在隧道的整个长度方向上扩散开，因此只设置少量的腐蚀孔就能够将预定腐蚀区域的牺牲层腐蚀完

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116264659 A (43)申请公布日 2023.06.16 (21)申请号 202111536878.3 (22)申请日 2021.12.15 (71)申请人无锡华润上华科技有限公司地址