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一种可实现靶基因两种剂量表达的基因修饰模型构建方法.pdfVIP

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  • 2023-06-19 发布于四川
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一种可实现靶基因两种剂量表达的基因修饰模型构建方法.pdf

    本发明提供了控制同一靶基因在宿主中以不同剂量进行表达的方法及产品，在插入序列中，外源强启动子两端设置了两个终止元件，每个终止元件两端具有不同的重组酶识别位点序列，当插入到宿主基因组编码外显子之前的内含子之中时，两个终止元件将阻止启动子的功能从而抑制靶基因表达，而通过不同的重组酶控制相应的终止元件及启动子的剔除实现内源启动子或外源强启动子调控的基因低剂量或高剂量表达。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113278651 B (45)授权公告日 2022.04.15 (21)申请号 202110587856.3 (74)专利代理机构 北京纪凯知识产权代理有限

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