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高纯度钛粉、钨钛合金溅射靶材的制备方法及系统.pdfVIP

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  • 2023-06-19 发布于四川
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高纯度钛粉、钨钛合金溅射靶材的制备方法及系统.pdf

    本发明属于溅射靶材技术领域，具体涉及一种高纯度钛粉、钨钛合金溅射靶材的制备方法及系统。其中，所述高纯度钛粉的制备方法，采用气相沉积法，将钛的卤化物加热分解，以制得高纯度钛粉。本发明通过采用气相沉积的方法制得高纯度钛粉，并将该高纯度钛粉直接用于钨钛溅射靶材的制备，不仅提高了钨钛溅射靶材的纯度，还避免了钛粉与氧反应导致氧含量升高；本发明制得的钨钛溅射靶材的纯度不低于99.999％，氧含量不超过300ppm，纯度和氧含量远高于目前市场上的产品，完全满足电子行业的需求。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113275589 A (43)申请公布日 2021.08.20 (21)申请号 202110553332.2 (22)申请日 2021.05.20 (71)申请人 亚芯半导体材料（江苏）有限公司

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