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一种磁控溅镀设备.pdfVIP

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  • 2023-06-19 发布于四川
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一种磁控溅镀设备.pdf

    本发明公开了一种磁控溅镀设备，包括载台，在水平方向被移动；升降装置，其底部固定至地面，其顶部设有一夹具；以及靶材，位于所述载台上方，其一端可转动式安装至所述载台，其另一端可拆卸式安装至所述夹具内。本发明的有益效果在于本发明的磁控溅镀设备添加机械升降装置，通过控制升降装置的升降臂从而抬高靶材的密封端，节约了人力资源。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113278936 B (45)授权公告日 2023.03.31 (21)申请号 202110517098.8 C23C 14/56 (2006.01) (22)申请日 2021.05

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