一种ITO旋转靶材表面制备工艺.pdfVIP

  • 20
  • 0
  • 约4.93千字
  • 约 6页
  • 2023-06-19 发布于四川
  • 举报
本发明提供一种ITO旋转靶材表面制备工艺,首先对ITO旋转靶胚进行粗磨、内圆磨和端磨,再通过自动循环水抛光设备抛光,控制芯轴转速50‑500转/min,水磨砂带转速500‑5000转/min,左右移动速度1‑20mm/s,控制表面冷却水流量1‑50L/min,抛光遍数1‑50,再清洗烘干,制得的ITO旋转靶材光洁度Ra0.1‑0.6um,抛光尺寸精度可控制0.1mm内。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113275951 A (43)申请公布日 2021.08.20 (21)申请号 202110577680.3 (22)申请日 2021.05.26 (71)申请人 芜湖映日科技股份有限公司

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档