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2023-06-20 发布于四川
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膜形成用组合物、抗蚀剂组合物、辐射线敏感性组合物、非晶膜的制造方法、抗蚀图案形成方法、光刻用下层膜形成用组合物、光刻用下层膜的制造方法和电路图案形成方法.pdf

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一种膜形成用组合物，其包含多环多酚树脂，所述多环多酚树脂具有源于选自由式(1A)和式(1B)所示的芳香族羟基化合物组成的组中的至少1种单体的重复单元，且前述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合而连接。(式(1A)中，X表示氧原子、硫原子、单键或为未桥接，Y为碳数1～60的2n价的基团或单键，此处，X为未桥接时，Y为前述2n价的基团。另外，式(1B)中，A表示苯环或稠环。进而，式(1A)和式(1B)中，R0各自独立地为任选具有取代基的碳数1～40的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、任选具有

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113302223 A (43)申请公布日 2021.08.24 (21)申请号 202080008710.2 (74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事

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