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- 2023-06-20 发布于四川
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本申请涉及一种掩膜版、阵列基板的制作方法和显示装置。阵列基板包括多个第一连接孔和多个第二连接孔。第一连接孔周围的走线面积小于第二连接孔周围的走线面积。掩膜版包括掩膜版主体。掩膜版主体设置有多个第一通光孔和多个第二通光孔。第一通光孔对应第一连接孔。第二通光孔对应第二连接孔。在曝光的条件下，第一通光孔的辐射通量大于第二通光孔的辐射通量。通过使第一通光孔的辐射通量大于第二通光孔的辐射通量，能够弥补在形成第一连接孔的图案时的曝光量。因此使在曝光工艺中，形成第一连接孔的图案时的曝光量等于或者趋于等于形成第
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113327938 A
(43)申请公布日 2021.08.31
(21)申请号 202110592220.8
(22)申请日 2021.05.28
(71)申请人 合肥
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