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2023-06-20 发布于四川
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一种屏蔽栅沟槽型MOSFET结构及其制造方法.pdf

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本发明公开一种屏蔽栅沟槽型MOSFET结构，包括：半导体衬底；外延半导体层，形成在所述半导体衬底之上；阱区，形成在所述外延半导体层之上；源区，形成在所述阱区内部；第一沟槽和第二沟槽，形成在所述外延半导体层、所述源区和所述阱区的内部；以及第二源极导电通道，形成在所述源区和所述阱区的内部，以及形成在所述第一沟槽和所述第二沟槽之间；其中所述第一沟槽和所述第二沟槽之间的最短距离定义了所述第二源极导电通道的最大宽度。本发明的MOSFET结构可以实现刻蚀的自对准，解决了在两个晶胞之间的间距太小的时候，现有的

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113284953 B (45)授权公告日 2021.11.26 (21)申请号 202110822237.8 H01L 21/336 (2006.01) (22)申请日

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