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- 2023-06-20 发布于四川
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本发明公开了一种能够保持清洗辊清洁的晶圆清洗系统及清洗方法,所述晶圆清洗系统包括:晶圆支撑部,其水平支撑晶圆并驱动晶圆旋转;清洗辊,其设置于晶圆的两侧并绕其轴线滚动;供液管,其设置于晶圆的侧部以朝向晶圆表面喷射清洗液;冲洗管及其摆动驱动部,所述冲洗管平行于所述清洗辊设置并位于晶圆的两侧,其上配置的喷嘴喷射的流体冲洗晶圆的表面;所述摆动驱动部设置于所述冲洗管的端部,其驱动冲洗管转动,使得喷嘴朝向所述清洗辊的外周侧喷射流体,以冲洗清洗辊附着的颗粒物。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113327841 B
(45)授权公告日 2022.07.29
(21)申请号 202110588299.7 B08B 3/12 (2006.01)
(22)申请日 2021.05.
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