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2023-06-21 发布于四川
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本发明涉及多射束描绘方法和多射束描绘装置。一个方式的多射束描绘方法基于像素尺寸和射束阵列信息，取得用于使担当射束向试样上的描绘区域被多射束的射束间间距尺寸分割而成的多个射束间间距区域的各射束间间距区域内的多个像素偏转的多个偏转坐标、在为了使多射束的各射束一起追随工作台的移动而进行的各跟踪控制期间中担当射束在各射束间间距区域内进行曝光的像素数、以及在经过跟踪控制期间后进行将跟踪开始位置复位的跟踪复位的情况下的多射束的偏转移动量，制作使用多个偏转坐标、在各跟踪控制期间中进行曝光的像素数以及进行跟踪复

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113341656 A (43)申请公布日 2021.09.03 (21)申请号 202110190014.4 (22)申请日 2021.02.18 (30)优先权数据 2020-0253

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