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本发明涉及一种电容性装置(10)，该电容性装置包括：金属层(20)；从金属层的面延伸的纳米管或纳米线束(40)的网络；以一致性的方式覆盖金属层(20)和纳米管束(40)的电容性叠组(50)，所述叠组包括上导电层(51)和隔离层(52)，该装置包括电容性区域(ZC)和下接触区(ZCI)，电容性区域(ZC)是上导电层(51)围封纳米管束(40)和隔离层(52)的区域，而下接触区域(ZCI)是电容性叠组(50)允许自由端被暴露的区域，并且是隔离层(52)围封上导电层(51)的区域。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113346019 A
(43)申请公布日 2021.09.03
(21)申请号 202110190049.8
(22)申请日 2021.02.18
(30)优先权数据
2001481
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