靶前高能质子束斑测量方法及系统.pdfVIP

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  • 2023-06-21 发布于四川
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一种靶前高能质子束斑测量方法及系统,包括将能够用于小孔成像的小孔装置设置在伽玛射线探测器和靶站之间,结合小孔成像原理,能够将靶站反角方向上靶面次级伽玛射线的像传输至像素型伽玛射线探测器上,进而可以通过所探测得到的靶面次级伽玛射线的分布信息得到靶面入射质子的束斑分布信息,能够实时的获得入射质子束斑的分布图像。由于该靶前高能质子束斑测量方法及系统可以避开强辐射的靶区,使得本系统适用于高功率散裂中子源和加速器驱动次临界系统等大型装置的靶前高能质子的束斑测量,且打靶的入射质子束流的功率越高,测量效果越好

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113376682 A (43)申请公布日 2021.09.10 (21)申请号 202110735866.7 (22)申请日 2021.06.30 (71)申请人 散裂中子源科学中心 地

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