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本发明属于材料技术领域，尤其涉及一种氧阻隔涂层及其制备方法和应用。本发明的氧阻隔涂层包括底涂层、缓冲层和面涂层，底涂层起到增加附着力的作用，缓冲层可调节涂层的热膨胀系数，面涂层可有效阻隔氧，特别是原子氧。涂层基于液相的聚硅氮烷制备，涂覆方式灵活；固化后的涂层为有机‑无机杂化涂层，主体成份为氧化硅。当原子氧通量为5.2x1021atoms/cm2时，涂层保护的聚合物材料剥蚀速率仅为0.015mg/cm2。从底涂层到缓冲层再到面涂层，存在化学结构无机成分递增的梯度，热膨胀系数可调控，适用于热膨胀系数
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113337214 B
(45)授权公告日 2022.07.29
(21)申请号 202010140313.2 C09D 5/00 (2006.01)
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