半导体制造设备.pdfVIP

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  • 2023-06-21 发布于四川
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本公开提供了一种半导体制造设备,包括:循环水系统,循环水系统包括循环供水组件、循环回水组件和回路水箱,回路水箱通过循环供水组件和循环回水组件连接曝光系统;液位传感器,设于回路水箱上,液位传感器包括设于回路水箱的第一位置的第一液位传感器,第一液位传感器检测到回路水箱内的水位到达第一位置,发出第一液位信号;计时电路,与第一液位传感器连接,计时电路接收第一液位信号,并生成第一时间信息,第一时间为回路水箱内的液位由补满位置降至第一位置的时间;控制电路,与计时电路连接,控制电路接收第一时间信息,并在第一时

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219226228 U (45)授权公告日 2023.06.20 (21)申请号 202223154759.4 (22)申请日 2022.11.25 (73)专利权人 杭州富芯半导体有限公司 地址

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