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本发明针对现有普通AFM探针在测量时存在的固有缺陷,提供了一种法拉第笼刻蚀法大批量制备倾角补偿AFM探针的方法,该技术方案利用法拉第笼在等离子体环境中形成等电位,引导等离子体以垂直于法拉第笼表面的方向进入法拉第笼的特性,进而以Cr2O3为硬掩膜,进行倾斜刻蚀,从而得到倾角补偿AFM针尖;同时利用电子束曝光,UV曝光及Bosch工艺,得到探针悬臂梁及探针基底。本发明能够以耗时短且成本低的工艺实现在整片SOI片上大批量生产倾角补偿探针,并改良AFM探针,提高AFM探针测量的精准度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113371677 A
(43)申请公布日 2021.09.10
(21)申请号 202110589264.5
(22)申请日 2021.05.28
(71)申请人 杭州探真纳米科技有限公司
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