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- 2023-06-21 发布于四川
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一种正弦条纹结构光投影系统及工作方法,解决了以往DMD技术采用二进制脉宽调制获取正弦条纹不适用于高速测量,而采用二值化条纹离焦投影正弦条纹对比度会随离焦量的增大而降低,同时大大降低了制造成本。其包括:照明光源(1),透镜系统(2)、微型电机(3)、位移检测器(4)、移相反射镜(5);照明系统为正弦条纹结构光投影系统提供照明;透镜系统将照明光源发出的平行光转换为发散光,其中的超透镜将均匀分布特征发散光转换为具有正弦条纹特征的发散光;移相反射镜对正弦条纹结构光的投射及相位进行调控;微型电机驱动移相反
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114111640 A
(43)申请公布日 2022.03.01
(21)申请号 202111474841.2
(22)申请日 2021.12.03
(71)申请人 北京理工大学
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