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一种光刻胶母模复制成型方法.pdfVIP

一种光刻胶母模复制成型方法.pdf

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    本发明公开了一种光刻胶母模的复制成型方法。本发明首先得到PDMS阴模和带微槽的PDMS基底，同时将PDMS基底置于等离子清洗机中进行清洗；其次使用打孔器在PDMS基底上打孔，并插入移液枪枪头，在限制性空间内注入光刻胶直至完全填充整个PDMS组合体的限制性空间；然后用固化灯照射后使光刻胶完全固化；最后剥离PDMS阴模，在PDMS基底上制得与原始光刻胶母模完全一致的复制母模。本发明可实现光刻胶母模的低成本、高效率、高保真的复制。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113334647 A (43)申请公布日 2021.09.03 (21)申请号 202110551179.X B01L 3/00 (2006.01) (22)申请日 20

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