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本发明提出了一种具有电磁流变双效应的抛光装置，其结构包括：步进电机(1)、电机架(2)、联轴器(3)、抛光头外壳(4)、导电滑环(5)、紧定螺钉(6)、上电磁铁线圈(7)、上电磁铁铁芯(8)、弹性体外套(9)、工件夹具(10)、隔板(11)、压力应变片(12)、上电极片(13)、电磁流变弹性体(14)、工件(15)、下电极片(16)、工件底座(17)、下电磁铁铁芯(18)、下电磁铁线圈(19)、PWM直流电源B(20)、控制器(21)、高压直流电源(22)、PWM直流电源A(23)、惠斯通电桥(
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113385988 A
(43)申请公布日 2021.09.14
(21)申请号 202010727093.3
(22)申请日 2020.07.27
(71)申请人 浙江师范大学
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