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本发明公开了一种化学镀铜液以及化学镀铜的方法,按质量浓度计,该化学镀铜液的组分包括:主盐、还原剂、络合剂、稳定剂、加速剂以及表面活性剂,其余量为超纯水;本发明的化学镀铜液还包括pH值调节剂和添加剂,该添加剂为聚乙烯吡咯烷酮和二苯胺磺酸钠。本发明的化学镀铜的方法包括碱性除油、微蚀、预浸、活化、解胶以及沉铜。其中,碱性除油、微蚀、预浸、活化以及解胶为预处理工序,将胶体钯颗粒吸附于待镀铜的PCB板上;沉铜工序通过本发明的化学镀铜液将铜离子催化还原于待镀铜PCB板。本发明的化学镀铜液中,聚乙烯吡咯烷酮和
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113388829 A
(43)申请公布日 2021.09.14
(21)申请号 202110650863.3
(22)申请日 2021.06.11
(71)申请人 惠州金晟新电子科技有限公司
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