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检测装置及光刻设备.pdfVIP

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    本发明提供一种检测装置及光刻设备，所述检测装置包括发光单元、遮光单元和探测单元；所述发光单元用于提供光线；所述遮光单元用于控制所述光线的通过，所述光线经过所述遮光单元后，部分所述光线入射至待检测结构并经所述待检测结构散射形成散射信号光；所述探测单元用于接收所述散射信号光，以检测所述待检测结构的颗粒度。即通过所述遮光单元控制所述光线的通过，进而避免所述光线中的杂散光入射到所述待检测结构，从而避免所述杂散光对所述散射信号光造成串扰。进一步的，由于避免了所述杂散光对所述散射信号光造成的串扰，从而提高所

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113406086 A (43)申请公布日 2021.09.17 (21)申请号 20201

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