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本发明公开了一种氮化钛膜制备方法,通过原子层沉积法在硅片上沉积氮化钛膜,采用多次循环形成所述氮化钛膜,所述多次循环包括以下步骤:S1,在腔体内放入硅片,通过第一气体管路通入钛原料气体,使其与所述硅片的硅衬底发生化学吸附,直至所述硅衬底表面达到饱和;S2,通入惰性气体进行吹扫,将过剩的反应物从系统中抽出清除;S3,通入氢离子到所述腔体内,与所述硅衬底中残留的氯反应形成氯化氢气体;S4,通入惰性气体进行吹扫,将过剩的反应物从系统中抽出清除;S5,通过第二气体管路通入氮化气体,使之和所述衬底上被吸附的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113388825 A
(43)申请公布日 2021.09.14
(21)申请号 202110568361.6
(22)申请日 2021.05.25
(71)申请人 上海华力集成电路制造有限公司
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