在脉冲式PVD中通过等离子体改性从晶片移除颗粒的方法.pdfVIP

在脉冲式PVD中通过等离子体改性从晶片移除颗粒的方法.pdf

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披露了用于减少沉积在基板上的颗粒的物理气相沉积方法。可增加溅射期间的压力以引起在等离子体中形成的颗粒的团聚。在熄灭等离子体之前，可将团聚的颗粒移动到处理腔室的外部部分，使得团聚物无害地落在基板的直径的外侧。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113412341 A (43)申请公布日 2021.09.17 (21)申请号 202080013665.X 基索尔 ·卡拉提帕拉比尔　

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