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本发明实施例提供一种半导体装置及其制造方法。半导体装置的制造方法包括于鳍结构上方形成第一虚设栅极结构、第二虚设栅极结构和第三虚设栅极结构。于第一虚设栅极结构、第二虚设栅极结构和第三虚设栅极结构上方形成硬遮罩图案层。第一虚设栅极结构从硬遮罩图案层暴露出来。移除第一虚设栅极结构及其下方的鳍结构,以形成沟槽。于沟槽中形成隔绝结构。分别以第一金属栅极结构和第二金属栅极结构置换第二虚设栅极结构和第三虚设栅极结构。隔绝结构的顶面分别对齐第一金属栅极结构的顶面和第二金属栅极结构的顶面。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113410177 A
(43)申请公布日 2021.09.17
(21)申请号 202110678189.X
(22)申请日 2017.06.16
(62)分案原申请数据
2017104
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