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- 2023-06-23 发布于四川
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一种多晶YAG陶瓷化学机械抛光液,属于精密/超精密加工技术领域。多晶YAG陶瓷化学机械抛光液的pH为7,包含溶质和溶剂两部分:溶剂为去离子水。按抛光液总质量分数100%计,其各组分和质量百分比含量如下:10~30wt%硅溶胶,1~5wt%的氧化铝磨粒,0.1~0.5wt%磨粒分散剂,适量的pH调节剂,各物质在去离子水中通过超声混合均匀。采用该抛光液可实现对多晶YAG陶瓷的超光滑抛光,抛光后的多晶YAG晶体表面晶界高差明显减小,能够获得超光滑、无损伤的多晶YAG晶体表面;可有效抑制晶界高差,达到表
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113480942 B
(45)授权公告日 2022.06.07
(21)申请号 202110898990.5 审查员 秦圆圆
(22)申请日 2021.08.06
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