金属电容结构及其制备方法.pdfVIP

金属电容结构及其制备方法.pdf

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本发明提供了一种金属电容结构及其制备方法，包括：基底；电容结构，包括依次堆叠的底层金属层、层间介质层及顶层金属层；若干开口，贯穿所述顶层金属层并向下延伸至所述层间介质层内，所述开口位于所述层间介质层内的部分的侧壁呈台阶状；本发明提高了金属电容结构的击穿电压。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113517401 B (45)授权公告日 2021.12.17 (21)申请号 202111066027.7 (56)对比文件

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