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2023-06-23 发布于四川
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一种完整单球体研磨抛光装置及加工方法，该装置包括设备机台、三个自由轨座滑台、三个电机研磨抛光组件、用于悬浮支撑球体均衡压力机构、研磨抛光液供给系统，以及PLC电控系统。所述PLC电控系统分为粗磨、精磨、粗抛、精抛四套程序。其加工方法为：加工步骤分a.b.c.d四个步骤，在a、b、c三个步骤中，高转速值范围为150～200转/分钟，低转速值范围100～150转/分钟；在步骤d中，三电机的相同转速设置为前三步骤高低电机转速的平均值，保证球体在每一步骤中的运动速度基本相同。本发明采用等角均匀对称“三足

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113427397 A (43)申请公布日 2021.09.24 (21)申请号 202110889651.0 B24B 41/00 (2006.01)

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