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本发明提供可用于在GaN‑HEMT这样的横向器件结构的氮化物半导体器件中应用的基板的GaN结晶、以及可用于GaN‑HEMT这样的横向器件结构的氮化物半导体器件的制造的基板。在具有面积5cm2以上的(0001)表面、该(0001)表面相对于(0001)结晶面的倾斜为10度以下的GaN结晶中，Fe浓度为5×1017atoms/cm3以上且小于1×1019atoms/cm3，总供体杂质浓度小于5×1016atoms/cm3。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113454272 A
(43)申请公布日 2021.09.28
(21)申请号 202080015811.2 (74)专利代理机构 北京三友知识产权代理有限
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