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本发明提供了一种双层共底结构，包括第一共底、第二共底、Y形环、垫环；所述第一共底、第二共底均为半球形结构，且由内向外同心布置；第一共底、第二共底间设置有第一间隙；所述第一间隙的尺寸为0.1～0.5mm；所述Y形环内设置有应力释放槽，所述应力释放槽与第一间隙相连通；应力释放槽中设置有垫环；所述垫环的厚度比所述Y形环的应力释放槽宽度小0.05～0.20mm。本发明通过第一共底、第二共底的设计，实现了共底贮箱共底的双层冗余设计，在中第一共底或第二共底发生泄漏后，推进剂泄漏至第一共底和第二共底的间隙内，
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116291963 A
(43)申请公布日 2023.06.23
(21)申请号 202211663244.9
(22)申请日 2022.12.23
(71)申请人 上海空间推进研究所
地址 201
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