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提供能够良好地清洗包含抛光后的高硬度材料的基板的方法。可提供对包含具有1500Hv以上的维氏硬度的材料的基板进行抛光并进行清洗的方法。该方法包括如下工序:使用抛光用组合物对抛光对象基板进行抛光的工序;以及,使用清洗剂对前述进行了抛光的基板进行清洗的工序。此处,前述抛光用组合物包含研磨助剂。另外,前述清洗剂包含表面活性剂。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116323882 A
(43)申请公布日 2023.06.23
(21)申请号 202180067120.1 (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事
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