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基板处理设备.pdfVIP

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  • 2023-06-24 发布于四川
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基板处理设备.pdf

    本发明涉及一种基板处理设备，包括：腔体、支撑腔体的上部的腔体盖、相对腔体盖安装以支撑基板的基座、喷射多种气体的气体喷射器，以及安装于腔体盖中的下垂防止栓。下垂防止栓能够与气体喷射器结合。下垂防止栓包括能供多种气体流动的多条路径。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116324028 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202180070615.X (74)专利代理机构 北京鸿元知识产权代理有限

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