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一种改善PVD面底色差的镀膜工艺.pdfVIP

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  • 2023-06-26 发布于四川
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一种改善PVD面底色差的镀膜工艺.pdf

    本发明公开了一种改善PVD面底色差的镀膜工艺，包括以下步骤：S1：清洗工件，对镀膜室抽真空，再对镀膜室加热至140~160℃；S2：向镀膜室中通入Ar至气压为‑1~1Pa，偏压为‑300~‑280V，再对工件进行离子清洗；S3：将工件放置在转架上，并在转架两端均安装有一对Ti靶，转架采用公转模式转动，向镀膜室内通入Ar至气压为0.3~0.5Pa，偏压为‑60~‑40V，在工件上溅射纯Ti层；S4：向镀膜室中通入N2至气压在0.3~0.5Pa，同时沉积TiAlN涂层；S5：向镀膜室中通入O2至气压

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116288216 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202310374978.3 C23C 14/08 (2006.01)

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