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本发明属于单晶薄膜制备技术领域，具体提供一种用于减少铂金坩埚腐蚀的液相外延炉及方法，用以解决现有的铂金坩埚在液相外延工艺中因与高温原料发生化学反应而遭受到严重腐蚀的问题。本发明包括：炉腔、升降机构以及气路系统，炉腔顶部设置有开关密封门，用以实现对炉腔顶部的密封；炉腔的底部设置外沿设有密封环的坩埚支架，用以实现对炉腔底部的密封；炉腔的内部开设与气路系统相连的输气孔，用以通入气氛气体并维持气压；通过具有密封结构的炉腔与气路系统的设计，使得高温原料在液相环境中充分氧化，有效解决了铂金坩埚受严重腐蚀的问
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116288671 A
(43)申请公布日 2023.06.23
(21)申请号 202310277691.9
(22)申请日 2023.03.21
(71)申请人 电子科技大学
地址 611731
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