原创力文档- 3
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- 2023-06-26 发布于四川
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本实用新型公开了一种晶圆后处理装置，其包括：壳体；清洗刷，水平设置于壳体中并能够绕轴线转动，以对晶圆进行刷洗；喷液组件，所述喷液组件包括喷嘴，所述喷嘴的喷射方向与晶圆的旋转方向相匹配；所述喷嘴以不同角度朝向晶圆表面喷射，以使喷射的流体覆盖晶圆表面；朝向晶圆边缘区域、中心区域及中间区域设置的喷嘴喷射的流体相互交错。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 219233267 U
(45)授权公告日 2023.06.23
(21)申请号 202223526652.8
(22)申请日 2022.12.29
(66)本国优先权数据
202111676179.9
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