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本发明提供一种固定研磨粒抛光装置及抛光方法。装置包括基垫、抛光垫、抛光液注入装置及夹持结构，抛光垫位于基垫上，抛光液注入装置一端与抛光液源相连接，另一端延伸到抛光垫的上方，夹持结构位于抛光垫上方，用于夹持待抛光的基板，其中，抛光垫包括多个抛光带，多个抛光带并排设置，且相邻的抛光带之间具有间隙，各抛光带上均固定有研磨粒。本发明创造性地将整块的抛光垫改造成相互间具有空隙的多个抛光带，可以将抛光过程中产生的杂质颗粒自该间隙及时排出，避免滞留于抛光垫上划伤基板。同时，由于各抛光带的抛光区域相互独立，可以
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113579990 B
(45)授权公告日 2022.07.26
(21)申请号 202110873451.6 B24B 37/26 (2012.01)
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