光刻胶涂布方法.pdfVIP

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2023-06-26 发布于四川
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光刻胶涂布方法.pdf

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本申请属于半导体集成电路技术领域，具体涉及一种光刻胶涂布方法。该光刻胶涂布方法包括：在晶圆的第一表面喷涂用于提高光刻胶粘结力的粘结剂，在晶圆的第一表面滴第一预定量的第一液体，以第一加速度驱动晶圆旋转以使第一液体从滴落点向晶圆的边缘方向运动，以通过第一液体的运动使粘结剂均匀铺在晶圆的第一表面，向晶圆的中心滴第二预定量的光刻胶，在完成滴胶后的第一时间段内以第二加速度驱动晶圆旋转以使第二预定量的光刻胶在第一表面铺开，在第二时间段内以预定转速驱动晶圆旋转以在晶圆的第一表面形成厚度均匀的光刻胶涂层，其中，

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116300317 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202310316023.2 (22)申请日 2023.03.28 (71)申请人天府兴隆湖实验室地址 6102