空白掩模、空白掩模成膜装置及空白掩模的制造方法.pdfVIP

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2023-06-28 发布于四川
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空白掩模、空白掩模成膜装置及空白掩模的制造方法.pdf

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本实施方式提供一种空白掩模和与其相关的成膜装置，上述空白掩模包括：透光基板，遮光膜，设置在上述透光基板上，以及相移膜，设置在上述透光基板和上述遮光膜之间；上述空白掩模包括：中心测定区域，以上述遮光膜的中心为基准，以及边缘测定区域与上述遮光膜的边缘相距20mm，上述中心测定区域和边缘测定区域分别为边长为20μm的正方形，上述空白掩模具有在上述中心测定区域测定的中心Rz粗糙度，上述空白掩模具有在上述边缘测定区域测定的边缘Rz粗糙度，由下述第1‑1式表示的Rz粗糙度不均匀度为20％以下：第1‑1式：R

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116339064 A (43)申请公布日 2023.06.27 (21)申请号 202211472819.9 G03F 1/34 (2012.01)