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- 2023-06-28 发布于四川
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本发明提供一种应用于MOCVD技术领域的MOCVD反应腔室清扫装置,本发明还涉及一种MOCVD反应腔室清扫方法,所述的MOCVD反应腔室清扫装置的每个擦拭部件Ⅰ(3)包括上部支撑件(4)和下部支撑件(5),每个擦拭部件Ⅰ(3)外侧分别设置擦拭件Ⅰ(6),上部支撑件(4)和下部支撑件(5)通过金属轴(7)活动连接,上部支撑件(4)上端活动连接支撑部件(2),下部支撑件(5)下端活动连接承载部件(1),支撑部件(2)上表面设置擦拭件Ⅱ(8),本发明所述的MOCVD反应腔室清扫装置及清扫方法,在不打开
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113652671 B
(45)授权公告日 2023.04.14
(21)申请号 202110936551.9 (51)Int.Cl.
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