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一种化学机械抛光液.pdfVIP

一种化学机械抛光液.pdf

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    本发明提供一种化学机械抛光液，包括经非离子表面活性剂处理后的α‑氧化铝纳米研磨颗粒、氧化剂、有机羧酸、水和pH调节剂。本发明的化学机械抛光液使用非离子型表面活性剂来修饰具有正电表面的磨料颗粒的方法。所得纳米颗粒在有机酸的溶液环境下能保持长时间稳定，并具有良好的抛光性能。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116355533 A (43)申请公布日 2023.06.30 (21)申请号 202111597693.3 (22)申请日 2021.12.24 (71)申请人 安集微电子科技（上海）股份有限公

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