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- 2023-07-01 发布于四川
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本申请是申请号:2019108101963,申请日:2019.8.29,发明名称:优化通孔层工艺窗口的辅助图形及方法的分案申请。本发明公开了一种优化通孔层工艺窗口的辅助图形,是适用于掩膜版中用于光学邻近效应修正,所述辅助图形为封闭的结构,还具有主图形位于所述辅助图形的中心区域,所述辅助图形位于主图形的外围,形成封闭的包围结构;所述辅助图形为至少两层的多层嵌套的封闭结构,其为SRAF图形,为封闭的多边形或者类似环形,至少包含有水平、垂直、45度、135度的边,各层结构之间具有一定的间距。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116360205 A
(43)申请公布日 2023.06.30
(21)申请号 202310333927.6
(22)申请日 2019.08.29
(62)分案原申请数据
201910810196.3
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