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2023-07-01 发布于四川
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一种适用于真空镀膜设备的磁场发生装置.pdf

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本发明公开一种适用于真空镀膜设备的磁场发生装置，包括：一个环形磁路；一对励磁线圈；一对铁芯；一对球切面极头；所述环形磁路采用中空的环形结构，使得样品台能从环形磁路中无接触的嵌入；所述环形磁路具体为圆环形；所述铁芯竖直放置可弯曲；所述极头为球切面；所述励磁线圈接通外接电源，对产生的磁场进行精准控制。本发明能有效节约真空镀膜设备中的横向有限空间；可对产生的磁场强度进行精准控制；可以在制备区域内产生均匀分布的磁场；适用于大尺寸晶圆膜堆的制备；不会对晶圆膜堆制备的其他所需条件(如加热)产生不利影响；可进

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113707405 B (45)授权公告日 2022.07.15 (21)申请号 202110896470.0 (56)对比文件 (22)申请日 2021.08.05

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