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本发明提供了一种抛光用氧化铝粉体及其制备方法,该方法包括:选取氢氧化铝原料,加入热纯水中,并加入生长剂,配置第一浆液;向所述第一浆液中加入pH调节剂,调节至酸性,研磨,获得氢氧化铝母液;将所述氢氧化铝母液经陶瓷膜洗涤,浓缩,获得第二浆液;将所述第二浆液进行水热晶化处理,处理后经陶瓷膜洗涤,干燥获得氧化铝前驱体;将所述氧化铝前驱体进行煅烧,获得氧化铝粉体。该方法工序简单,易于控制,制得的氧化铝粉体呈平板状结构,形状规则,棱角少,表面平整,粒径及厚度尺寸适宜,适于用作半导体晶圆的精抛材料。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116354374 A
(43)申请公布日 2023.06.30
(21)申请号 202310327150.2 C01F 7/441 (2022.01)
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