原创力文档- 5
- 0
- 约8.74千字
- 约 8页
- 2023-07-01 发布于四川
- 举报
本发明提供一种量测图形结构，包括量测图形，量测图形包括第一量测图形和第二量测图形，量测图形设置在切割道以及die中；其中，第一、二量测图形呈矩阵分布，量测图形中的X方向和Y方向均至少存在一个第一量测图形和第二量测图形；第一量测图形由多个条形图形组成，第一量测图形用于形成前层套刻标记；第二量测图形为矩形形状，第二量测图形用于形成当层套刻标记。本发明使用一个特殊设计的量测图形，可同时用于套刻精度和关键尺寸的量测，且该量测图形具有较小的尺寸，可以用于曝光区域内部高阶套刻精度和关键尺寸均一性补偿，从而在
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116360223 A
(43)申请公布日 2023.06.30
(21)申请号 202310085990.2
(22)申请日 2023.02.01
(71)申请人 上海华力集成电路制造有限公司
地址
文档评论（0）